据南京市政府官方消息,国家第三代半导体技术创新中心(南京)历经4年自主研发,成功突破沟槽型SiC MOSFET芯片制造关键技术,打破平面型SiC MOSFET芯片性能“天花板”,实现我国在该领域首次突破。SiC是第三代半导体材料的主要代表之一,具有宽禁带、高临界击穿电场,高电子饱和迁移速率和高导热率等优良特性。SiC MOS主要分为平面和沟槽两种结构,目前业内应用以平面SiC MOSFET芯片为主。平面碳化硅 MOS 结构的特点是工艺简单,元胞一致性较好、雪崩能量比较高;缺点是当电流被限制在靠近 P 体区域的狭窄 N 区中,流过时会产生 JFET 效应